Установки безмасковой литографии MIVA Technologies серий 121XX/123XX/126XX и 201XX/203XX/206XX представляют собой высокопроизводительные генераторы изображений, подходящие как для производства фотошаблонов, так и для прямой печати на поверхности подложек.
Установки 121XX/123XX/126XX и 201XX/203XX/206XX основаны на принципе растровой проекционной литографии с матрицей микрозеркал, положение которых формирует изображение на поверхности образца. Большой размер матрицы позволяет получать самые высокие показатели производительности на рынке безмасковых генераторов изображений.
Установки серий 121XX/123XX/126XX специально разработаны для задач микроэлектроники и оснащены компактным рабочим столом с размерами 300x400 мм. Машины этой серии специального исполнения позволяют работать с разрешением до 1 мкм при высокой скорости печати.
Технические характеристики
| Модель | 121XX laser Mask Writer |
123XX/126XX Dual LED Mask Writer | 201XX laser Mask Writer |
203XX/206XX Dual LED Mask Writer |
|---|---|---|---|---|
| Максимальный размер подложки, мм | 300×400 | 510×610 | ||
| Типоразмеры подложек | 60×48 мм, 1"-12", нестандартные | |||
| Разрешение, мкм | 1 | 3/6 | 1 | 3/6 |
| Источник излучения | Модуль УФ лазерных диодов | 2 высоко- энергетичных СИД |
Модуль УФ лазерных диодов | 2 высоко- энергетичных СИД |
| Точность позиционирования, мкм | ±1 | |||
| Неоднородность размеров элементов топологии | 10% от минимального размера | |||
| Максимальное отклонение положения элементов топологии от заданного положения по всей площади экспонирования, 3 σ | ±2 мкм | |||
| Возможность экспонирования излучением со следующими длинами волн | 405 нм* | 405 нм* для УФ-чувствительных материалов | 405 нм* | 405 нм* для УФ-чувствительных материалов |
| 525 нм для фотоэмульсии | 525 нм для фотоэмульсии | |||
| Автофокус | Лазерный | |||
| Разрешение системы позиционирования по осям X и Y | 20 нм | |||
| Разрешение системы позиционирования по оси Z | 625 нм | |||
| Язык интерфейса управления установкой | русский | |||
| Защита от вибраций | Встроенное антивибрационное основание | |||
| Требования к среде | Температура 21 ± 1 °С Влажность 50% |
|||
| Электропитание | 220 В, 50 Гц | |||
| Сжатый воздух или азот | 150 л/мин. при 5 бар | |||
| Габариты (Ш×В×Г), мм | 1100×1780×1050 | 1220×1780×1480 | ||
| Вес, кг | 700 | 750 | ||
* другие под заказ
