Установка атомно-слоевого осаждения Classic
Установка Classic предназначена для процессов термического атомно-слоевого осаждения (TALD – Thermal Atomic Layer Deposition) тонких пленок. Конфигурация установки позволяет работать с пластинами диаметром до 200 мм, а также прямоугольными подложками. Загрузка образцов в камеру осуществляется в ручном режиме. Имеется встроенная система подачи прекурсоров и рабочих газов. Управление системой осуществляется при помощи цветного сенсорного дисплея. Опционально доступна автоматическая загрузка пластин из кассеты или кластерная конструкция с несколькими модулями. Установка атомно-слоевого осаждения Classic является бюджетным и надежным решением для научно-исследовательских центров и лабораторий.
Область применения
- Наноэлектроника: осаждение оксидов, нитридов, металлов, барьерных и seed слоев.
- Новые разработки в области сенсоров, НЭМС, МЭМС, графеновых транзисторов, OLED.
- Оптические покрытия для фильтров УФ - ИК диапазона.
- Осаждение защитных и коррозионностойких покрытий.
Особенности
- Конструкция рабочей камеры с горизонтальным потоком прекурсоров обеспечивает высокую равномерность по толщине пленки.
- Рабочая камера из алюминия для одиночной обработки пластин или прямоугольных подложек
- Регулируемая температура подложки 25 – 400°C.
- До 4 линий подачи прекурсоров и рабочего газа.
- Простой и понятный графический интерфейс пользователя на базе PLC и сенсорного дисплея для задания параметров технологического процесса (рецептов).
- Простое сервисное обслуживание благодаря модульной конструкции установки.
- Опционально доступен встроенный генератор озона (O3).
- Совместимость с условиями чистых помещений.
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Размер пластин | 50 – 200 мм Прямоугольные подложки *Другие размеры по запросу |
| Загрузка пластин | Ручная (open load) |
| Тип реактора | Рабочая камера с горизонтальным потоком |
| Температура нагрева подложки Температура нагрева стенок камеры |
25 - 400°С макс. 150°С |
| Линии подачи прекурсоров | 4 линии: 3 подогреваемые до 150˚С (опция до 250˚С) 1 без подогрева |
| Рабочие газы | Встроенный газовый шкаф на 4 линии с цифровыми РРГ |
| Вакуумная система Предельное давление Контроль давления |
Сухая откачная система с подогревом < 1х10-3 Торр Автоматический |
| Система управления | ПЛК и сенсорный дисплей с GUI-интерфейсом |
| Дополнительные опции | Групповая обработка до 25 пластин Автоматический шлюз загрузки пластин Кассетная загрузка пластин Дополнительные линии прекурсоров и рабочего газа Источник прекурсоров (барботер, испаритель, LDS) |
