Описание
Установка Premium позволяет совмещать процессы термического (TALD - Thermal Atomic Layer Deposition) и плазмостимулированного (PEALD - Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) атомно-слоевого осаждения тонких пленок в одной рабочей камере. Конфигурация установки позволяет работать с подложками диаметром до 300 мм. Загрузка образцов в камеру осуществляется через шлюз в ручном режиме. Имеется встроенная система подачи прекурсоров и рабочих газов. Управление системой осуществляется при помощи цветного сенсорного дисплея. Опционально доступна автоматическая загрузка пластин из кассеты или кластерная конструкция с несколькими модулями. Благодаря своей универсальности и функциональности, установка атомно-слоевого осаждения Premium подходит для научно-исследовательских центров и мелкосерийного производства.
Область применения
- Наноэлектроника: осаждение оксидов, нитридов, металлов, барьерных и seed слоев.
- Новые разработки в области сенсоров, НЭМС, МЭМС, графеновых транзисторов, OLED.
- Оптические покрытия для фильтров УФ - ИК диапазона.
- Осаждение защитных и коррозионностойких покрытий.
Особенности
- Возможность совмещать в одной установке процессы TALD и PEALD благодаря наличию ВЧ-генератора плазмы (13,56 МГц / 600 Вт).
- Запатентованная конструкция рабочей камеры с газовым душем обеспечивает высокую равномерность по толщине пленки и исключает предварительное смешивание прекурсора и рабочего газа.
- Рабочая камера из алюминия для одиночной обработки пластин размером до 300 мм.
- Регулируемая температура подложки 25 – 500°C.
- До 4 линий подачи прекурсоров и рабочего газа.
- Простой и понятный графический интерфейс пользователя на базе PLC и сенсорного дисплея для задания параметров технологического процесса (рецептов).
- Простое сервисное обслуживание благодаря модульной конструкции установки.
- Опционально доступен встроенный генератор озона (O3).
- Совместимость с условиями чистых помещений.
Технические характеристики
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Размер пластин | 50 – 300 мм *Другие размеры по запросу |
| Загрузка пластин | Ручная через шлюз |
| Тип реактора | Рабочая камера с газовым душем |
| Температура нагрева подложки Температура нагрева стенок камеры |
25 - 500°С макс. 150°С |
| ВЧ-генератор плазмы | 13,56 МГц / 600 Вт |
| Линии подачи прекурсоров | 4 линии: 3 подогреваемые до 150˚С (опция до 250˚С) 1 без подогрева |
| Рабочие газы | Встроенный газовый шкаф на 4 линии с цифровыми РРГ |
| Вакуумная система Предельное давление Контроль давления |
Сухая откачная система с подогревом < 1х10-3 Торр Автоматический |
| Система управления | ПЛК и сенсорный дисплей с GUI-интерфейсом |
| Равномерность осаждения пленки Al2O3 | < 1% |
| Дополнительные опции | Автоматический шлюз загрузки пластин Кассетная загрузка пластин Дополнительные линии прекурсоров и рабочего газа Источник прекурсоров (барботер, испаритель, LDS) |
