Установка атомно-слоевого осаждения Shell
Установка Shell предназначена для процессов атомно-слоевого осаждения тонких пленок на порошковые или гранулированные материалы. Загрузка порошка в рабочую камеру осуществляется вручную. Имеется встроенная система подачи прекурсоров, а также привод вращения рабочей камеры для равномерного осаждения пленки. Установка Shell подходит для создания и исследования новых нанопорошков.
Область применения
- Нанотехнологии и наноматериалы.
- Нанокатализаторы и функциональные материалы.
- Нанопорошки.
- Обработка порошковых материалов.
Особенности
- Специальная конструкция рабочей камеры обеспечивает равномерное осаждение тонких пленок на порошковые материалы.
- Регулируемая температура камеры 25 – 300°C.
- До 4 линий подачи прекурсоров.
- Простое сервисное обслуживание благодаря модульной конструкции установки.
- Совместимость с условиями чистых помещений.
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Загрузка | Ручная (open load) |
| Объем рабочей камеры | 100 – 500 см3 (в зависимости от применения) |
| Температура нагрева камеры | 25 - 300°С |
| Линии подачи прекурсоров | 4 линии: 3 подогреваемые до 150˚С 1 без подогрева |
| Рабочие газы | Встроенный газовый шкаф с цифровыми РРГ |
| Вакуумная система Предельное давление Контроль давления |
Сухая откачная система с подогревом < 20 мТорр Автоматический |
| Система управления | ПЛК и сенсорный дисплей с GUI-интерфейсом |
