Установка плазмохимического осаждения Vision 310 PECVD
- Изменяемое расстояние между газовым душем и электродом.
- Многоуровневый доступ пользователей.
- Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
- Простота использования и обслуживания.
- Малая занимаемая площадь <0,7 м2.
- Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
- Опциональное оснащение боксом для работы с токсичными и коррозионными газами.
Производитель: Plasma-Therm
Установка плазмохимического осаждения Vision 310 PECVD компании Plasma-Therm— это компактная, надежная, технологически гибкая и простая в эксплуатации и обслуживании установка плазмостимулированного осаждения из газовой фазы для R&D-лабораторий и мелкосерийных производств.
Установка Vision 310 PECVD позволяет осаждать следующие материалы:
Установка Vision 310 PECVD позволяет осаждать следующие материалы:
- Диэлектрики: SiO2, SiNx, SiOxNy.
- Полупроводниковые материалы: SiC, a-Si.
Ключевые преимущества установки Vision 310 PECVD:
- Большая область загрузки — круглый стол диаметром 305 мм, который позволяет обрабатывать подложки разных форм и размеров.
- Изменяемое расстояние между газовым душем и электродом.
- Равномерность осаждения по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±2%.
- В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
- Простой, интуитивно понятный интерфейс.
- История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
- Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
- Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
- Многоуровневый доступ пользователей.
- Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
- Современная архитектура на основе ПЛК и DeviceNet: безопасная работа, легкая диагностика и минимальное количество проводов.
- Простота использования и обслуживания.
- Малая занимаемая площадь <0,7 м2.
- Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
- Опциональное оснащение боксом для работы с токсичными и коррозионными газами.
- Возможность изготовления опций и оснастки «под заказ».
Основные технические характеристики установки Vision 310 PECVD
| Размер электрода | 12″ (305 мм) в диаметре |
| Температура электрода | +40...380 °С |
| Материал электрода | Алюминий. Опционально доступны другие материалы |
| Тип плазмы | Емкостная |
| ВЧ-генератор | 300 Вт, 13,56 МГц. Опционально генератор LF |
| Вакуумная камера | Изготовлена из цельного блока алюминия. Опциональная внешняя система прогрева |
| Откачная система |
Форвакуумный насос 250 м3/ч, масляный или безмасляный Возможна установка других насосов по ТЗ заказчика |
| Уровень вакуума | <10-6 торр |
| Контроль давления процесса | Автоматический |
| Газовые линии с цифровыми РРГ | 5 линий (стандартно). Опционально до 10 линий |
| Система контроля, ПО | ПЛК (XP/Windows 7), DeviceNet |
| Электропитание | 380 В, 50 Гц, 3 фазы |
| Габариты установки (Ш×Г×В) |
730×934×2147 мм с газовым шкафом на каркасе 730×934×1172 мм без газового шкафа на каркасе Возможно размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки |
| Сертификация | CE, SEMI-2, S8 |
Стандартная комплектация
- Система отслеживания окончания процесса:
- Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
- Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
- Лазерная интерферометрия (LEPD)
- Сухой форвакуумный насос
- Дополнительные газовые линии (до 10 в сумме)
- Расширение температурного интервала электрода (например, –25...+60 С, либо диапазон на заказ)
- Перчаточный бокс
- Специальные держатели образцов
- Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта
- Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM
- Пакет для установки через стенку ЧПП
- Размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки
- Расширенная гарантия производителя
- Специальные опции под заказ
