Плазмохимическое осаждение

Вид:
Сортировать по:
27 товаров
в каталоге
26 доступно под заказ,
доставка возможна по всей России

Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения

Характеристика\Модель Тип загрузки Область загрузки (диаметр, мм) Технология Осаждение материала
Plasma-Therm Vision 310 PECVD Открытая/ Бокс 305 PECVD SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si
Plasma-Therm Vision 410 PECVD Открытая 406 PECVD SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si
Plasma-Therm Takachi HDPCVD Шлюз 200 HDPCVD Низкотемпературное осаждение SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si
Plasma-Therm Versaline PECVD Шлюз/ кассетная/ кластер 200 PECVD SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si
Plasma-Therm Versaline HDPCVD Шлюз/ кассетная/ кластер 200 HDPCVD Низкотемпературное осаждение SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si
Plasma-Therm LAPECVD Кассетная Под заказ PECVD SiO2, SixNy
×

Этот веб-сайт использует файлы cookie для более удобной работы пользователей. Использование файлов cookies позволит в будущем улучшить функционал данного сайта. При работе с данным веб-сайтом Вы принимаете решение об использовании файлов-cookie. Вы можете ознакомиться с Политикой использования файлов cookie