Назад Назад

Установка плазменной обработки CIONE6-ICP-3MP

Остаток на складе:
Под заказ
Цена:
Цена по запросу
Камера
Прямоугольная алюминиевая камера с дверцей 200×220×160 мм
Объем камеры
7 л.
Газовая система
Цифровые РРГ
Генератор плазмы
Генератор для источника ICP с автоматическим согласованием, Генератор Bias электрода
Режимы работы
Только ICP: очистка, модификация поверхности, плазмохимическое травление, Только Bias: реактивное ионное травление низкой плотности (мягкое травление, ICP + Bias: плазменное травление высокой плотности
Управление
Автоматическое (сенсорный дисплей)
Держатель образцов
Лоток для образцов диаметром 6 дюймов
Датчик давления
Пирани
Вакуумный насос
Безмасляный насос
Серия CIONE-ICP с уникальной конструкцией источника индуктивно-связанной плазмы планарного типа обеспечивает более высокую плотность и неповреждающую плазму, а также обеспечивает высокую производительность направленного травления в сочетании с электродом смещения.
С помощью этого оборудования пользователи могут выборочно выполнять травление высокой плотности наряду с удалением нанослоев, называемое «мягким травлением», а также модификацию поверхности, такую как придание гидрофильности, активацию поверхности, очистку и улучшение адгезии. Области применения:
  • Групповая обработка объемных образцов: электроника, приборостроение, медицина и др.;
  • Керамика 60×48 мм (групповая обработка): очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
  • Полупроводниковые пластины до 8″ (групповая обработка): очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР.
  • Подготовка корпусов электронных изделий перед вклейкой и разваркой компонентов.
  • Обработка печатных плат перед нанесением паяльной пасты;
  • Очистка заготовок печатных плат после операций резки и пробивки отверстий;
  • Обработка печатных плат перед монтажом навесных элементов;
  • Обработка печатных плат перед нанесением адгезива или компаунда.
Показать еще