Лазерные генераторы изображений 4PICO представляют собой универсальные лазерные генераторы изображений с ультравысокой точностью, специально разработанные для предоставления пользователю максимальной свободы создания микроструктур в фоточувствительных слоях. Принцип растрирования генератора обеспечивает равномерное экспонирование по всей поверхности. Сканирование подложки с высокой скоростью и шаговый привод экспонирующего модуля с программной регулировкой высоты делает MicroMaster 150 идеальным фотолитографическим инструментом для исследований, разработок, а также для опытного и мелкосерийного производства.
Ключевые особенности лазерных генераторов 4PICO серии PicoMaster:
- 4 режима экспонирования - 0,3 мкм, 0,6 мкм, 0,9 мкм, 5 мкм;
- Переключение режимов экспонирования в ПО установки, без смены объективов;
- Экспонирование одной топологии разными режимами в одном рецепте для увеличения производительности;
- Уникальная запатентованная конструкция экспонирующего модуля, позволяющая автофокусу моментально отрабатывать все неровности подложки;
- Экспонирование многослойных структур с совмещением по меткам;
- Полутоновое экспонирование;
- Возможность замены экспонирующего модуля на новый путем откручивания 4 винтов, без дополнительных настроек и калибровок (минимальное время простоя);
- Понятное и функционально насыщенное ПО, позволяющее при необходимости настроить процесс на самых глубоких уровнях.
Зависимость скорости экспонирования от минимального размера пятна
Разрешение |
Скорость экспонирования при 50% наложении (normal quality) |
Скорость экспонирования при 30% наложении (reduced quality) |
0,3 мкм |
1,4 мм2/мин |
2,1 мм2/мин |
0,6 мкм |
2,8 мм2/мин |
4,2 мм2/мин |
0,9 мкм |
4,2 мм2/мин |
6,4 мм2/мин |
5 мкм (опция) |
23 мм2/мин |
35 мм2/мин |
Доступные опции:
Замена источника излучения 405нм на источник с длиной волны 375нм;
Модуль поддержания температуры и влажности в рабочем объеме генератора;
Запасной экспонирующий модуль (375нм или 405нм на выбор).
Максимальный размер подложки |
160х160 мм |
Область экспонирования |
150х150 мм |
Разрешение |
0,3 мкм, 0,6 мкм, 0,9 мкм, 5 мкм (выбирается в ПО) |
Источник излучения |
Диодный УФ лазер |
Длина волны источника излучения |
405 нм (опционально 375 нм) |
Автофокус |
Лазерный |
Совмещение по меткам |
Камера высокого разрешения |
Защита от вибраций |
Гранитное основание |
Тип корпуса |
Настольный |
Вакуум |
Внешний насос |
Показать еще