Назад Назад

Установка проявления фоторезиста Apogee Developer

Производитель:
Остаток на складе:
Под заказ
Цена:
Цена по запросу

Установка проявления фоторезиста Apogee Developer предназначена для одиночной обработки пластин размером до 200 мм (опционально 300 мм) или квадратных подложек с габаритами до 177×177 мм. В зависимости от конфигурации, проявление фоторезиста возможно выполнять двумя методами: спреем или струёй. Проявление фоторезиста спреем доступно с использованием до 4 сопел низкого или высокого давления, расположенных под углом или вертикально к подложке. При проявлении струей, подача проявителя осуществляется в центр подложки. Химически и коррозионностойкий материал рабочей чаши позволяет использовать все виды химических реактивов. Автоматическая система подачи проявителя в центрифугу, различные варианты держателей подложек, опция отмывки лицевой и обратной стороны подложки в деионизованной воде, сушка лицевой поверхности азотом, делают центрифугу Apogee Developer универсальным решением для операций проявления фоторезиста и отмывки пластин. Управление центрифугой производится при помощи цветного сенсорного дисплея с GUI-интерфейсом. Инновационное программное обеспечение DataStream™ позволяет осуществлять работу по рецептам и анализировать рабочие параметры в режиме реального времени. Предусмотрены USB и Ethernet порты для экспорта/импорта данных. Конструкция установки проявления Apogee Developer выполнена по принципу «plug&play», тем самым обеспечивается простая инсталляция и легкое освоение для пользователей любого уровня.

Для заказа доступны как настольный вариант размещения, так и встраиваемый вариант для интеграции в рабочий модуль X-Pro II.

Область применения

  • Проявление фоторезиста.
  • Взрывная литография (lift-off).
  • Отмывка пластин в деионизованной воде.

Особенности

  • Проявление фоторезиста спреем (до 4 сопел) или струей.
  • Система автоматической подачи проявителя.
  • Возможность отмывки лицевой и обратной стороны подложки в деионизованной воде.
  • Сушка лицевой поверхности азотом.
  • Быстрая смена подложкодержателя под пластины различного размеры.
  • Простой интерфейс управления с цветным сенсорным дисплеем 7" и инновационным ПО DataStream™.
  • Лидирующий на рынке показатель надежности и времени безотказной работы.

Технические характеристики

Параметр Значение
Максимальный диаметр подложки 200 мм (опционально 300 мм)
Фотошаблоны до 177×177 мм
Скорость вращения
Разрешение
Воспроизводимость
0 – 12.000 об/мин (регулируется в ПО)
< 0.2 об/мин
< 0.2 об/мин
Ускорение скорости вращения 0 – 30.000 (об/мин)/с (без подложки)
0 – 23.000 (об/мин)/с (с пластиной 200 мм)
Тип корпуса Настольный или встраиваемый
Материал чаши Химически и коррозионностойкий полиэтилен (HDPE)
Подача реактива Автоматическая
Отмывка лицевой и обратной стороны Имеется для пластин Ø50-200 мм
Сушка лицевой поверхности N2 Имеется для пластин Ø50-200 мм
Управление
  • Цветной сенсорный LCD дисплей 7"
  • Встроенный контроллер c новейшим ПО DataStream™ для отображения параметров процесса в режиме реального времени
  • Интуитивно понятный GUI-интерфейс
  • Работа по рецептам (время шага 0-9999.9 с, разрешение 0.1 с)
  • USB/Ethernet порты для загрузки/выгрузки параметров рецепта
  • Экспорт данных в Excel
  • Встроенные защитные блокировки для безопасной работы
Габариты (Ш×В×Г) 336×483×457 мм
Вес 21 кг
Дополнительные опции
  • Комплект универсальных держателей
  • Съемные вкладыши в чашу
  • Центрирующий инструмент для пластин
  • Сушка лицевой поверхности азотом
  • Емкость для сбора реактивов с сенсором уровня заполнения
  • Автоматический сливной разделитель для проявителя и ДИ воды
Показать еще