Описание
Установка электронно-лучевого напыления EB-450 специально разработана для мелко- и среднесерийных производств. Установка позволяет получать тонкие пленки широкого спектра металлов (Al, Au, Cr, Cu, Vn, Ni, Ti и др.), диэлектриков и полупроводниковых материалов. Установка может быть легко сконфигурирована под требуемые задачи при работе с пластинами 60 х 48 мм или 2” – 8”, обеспечивает хорошую повторяемость результатов при осаждении одно- и многослойных пленок. Равномерность нанесения материалов типично составляет ≤3%. Компактный корпус машины может быть легко размещен в условиях недостатка площадей, конструкция корпуса позволяет разместить установку через стену ЧПП.
В отличие от однокамерной конфигурации в установке EB-450, установка E-400-L выполняется в двухкамерной конфигурации. Нижняя камера выполняет функцию изоляции электронно-лучевого испарителя, а верхняя камера используется для загрузки образцов. Таким образом, материал для испарения всегда остается в вакуумной камере даже в процессе загрузки образцов. Размер верхней камеры может изменяться в зависимости от размера и количества подложек. Верхняя и нижняя камеры разделены высоковакуумным шибером.
Обе установки опционально оснащаются различными типами насосов, ИК-нагревателями, ионным источником для очистки или ассистирования. Возможно исполнение установок с вакуумным шлюзом.
Показать еще
В отличие от однокамерной конфигурации в установке EB-450, установка E-400-L выполняется в двухкамерной конфигурации. Нижняя камера выполняет функцию изоляции электронно-лучевого испарителя, а верхняя камера используется для загрузки образцов. Таким образом, материал для испарения всегда остается в вакуумной камере даже в процессе загрузки образцов. Размер верхней камеры может изменяться в зависимости от размера и количества подложек. Верхняя и нижняя камеры разделены высоковакуумным шибером.
Обе установки опционально оснащаются различными типами насосов, ИК-нагревателями, ионным источником для очистки или ассистирования. Возможно исполнение установок с вакуумным шлюзом.
Технические характеристики
| Диаметр держателя подложек | До 350 мм, или специальный по ТЗ |
| Размер подложек | 60 х 48 мм или 2” – 8” |
| Система откачки | Сухой спиральный насос + турбомолекулярный насос или крионасос |
| Предельное давление | 10-7 Торр |
| Типичная скорость откачки камеры | 10-6 Торр за 30 мин. |
| Скорость вращения подложки | 5 – 30 об./мин. |
| Равномерность по толщине | ±3%, зависит от конфигурации |
| Мощность электронного луча | 6 кВт |
| Число и размер тиглей | 1 – 6 шт. / 7 – 25 см3 |
| Система управления | ПЛК/ПЛК+ПК |
| Отслеживание толщины | Кварцевый толщиномер |
| Смотровое окно | Есть |
| Сменные экраны для вакуумной камеры | Есть |
| Опции |
Система нагрева Система охлаждения Ионный источник для очистки или ассистирования Вакуумный шлюз Другие опции под заказ |
