Установки магнетронного напыления SP-203/303/503
Установки магнетронного напыления SP-203/303/503 специально разработаны для мелко- и среднесерийных производств. Установки позволяют получать тонкие пленки широкого спектра металлов, диэлектриков и других материалов. Равномерность нанесения материалов типично составляет ≤3%. В зависимости от конфигурации источников, установки серии SP могут быть оснащены вакуумными камерами различного объема. Модификации SP-203/303/503 перекрывают весь спектр возможных конфигураций внутренней оснастки для работы с пластинами 60 х 48 мм и полупроводниковыми пластинами диаметром 2” – 6”. Компактный корпус машины может быть легко размещен в условиях недостатка площадей, конструкция корпуса позволяет разместить установку через стену ЧПП.
Технические характеристики
| Диаметр держателя подложек | До 350 мм, или специальный по ТЗ |
| Размер подложек | 60 х 48 мм или 2” – 6” |
| Размещение магнетронов | Вверх/вниз |
| Количество/диаметр магнетронов | 1 – 5 шт. / 2” – 6” |
| Тип блоков питания | DC или RF |
| Нагрев образцов | Опционально до +800 °С |
| Система откачки | Сухой спиральный насос + турбомолекулярный насос |
| Предельное давление | 10-7 Торр |
| Типичная скорость откачки камеры | 10-6 Торр за 30 мин. |
| Контроль давления | Автоматический |
| Скорость вращения подложки | 5 – 30 об./мин. |
| Равномерность по толщине | ±3%, зависит от конфигурации |
| Система управления | ПЛК/ПЛК+ПК |
| Отслеживание толщины | По времени или с помощью кварцевого толщиномера |
| Смотровое окно | Есть |
| Сменные экраны для вакуумной камеры | Есть |
| Опции |
Система нагрева Система охлаждения Ионный источник для очистки или ассистирования Вакуумный шлюз Другие опции под заказ |
