Установка плазменной обработки Femto
- Объем камеры - 1,9–6 л
- Газовая система - Игольчатые клапаны с ротаметрами или цифровые РРГ
- Генератор плазмы - 40/80/100 кГц: 100, 200, 500 и 1000 Вт; 13,56 МГц: 50, 100 и 300 Вт; 2,45 ГГц: 100 и 300 Вт
- Электрод - Одно- или многоуровневый электрод; РИТ-электрод
Производитель: Diener Electronic
Установки серии Femto предназначены для плазмохимической обработки образцов малых и средних размеров в R&D-лабораториях и на опытных производствах. В бюджетных малогабаритных установках можно проводить все основные виды плазменной обработки при минимальных затратах. Различные варианты материалов камеры и типов генераторов позволяют получить конфигурацию идеально подходящую под конкретное применение.
В отличие от серий Zepto и Atto, установки Femto могут быть оснащены камерой из нержавеющей стали или алюминия, дверцей на петлях, барабаном для обработки сыпучих материалов, электродом для реактивно-ионного травления и микроволновым генератором плазмы с частотой 2,45 ГГц. Основным преимуществом установок серии Femto является большое количество вариантов конфигурации при относительно низкой стоимости и малых габаритах.
Области применения
- Керамика 60×48 мм: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
- Полупроводниковые пластины до 3″: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
- R&D и исследования.
Технические характеристики установок серии Femto
| Камера |
|
| Объем камеры | 1,9–6 л |
| Газовая система | Игольчатые клапаны с ротаметрами или цифровые РРГ |
| Генератор плазмы |
|
| Электрод |
|
| Управление |
|
| Датчик давления |
|
| Загрузка образцов |
|
| Вакуумный насос | Различные варианты под требования заказчика |
| Габариты (Ш×В×Г) |
345×220×420 мм Доступны различные варианты корпусов |
