Установка плазменной обработки Pico
- Объем камеры - 4–15 л
- Газовая система - Игольчатые клапаны с ротаметрами или цифровые РРГ
- Генератор плазмы - 40/80/100 кГц: 100, 200, 500 и 1000 Вт; 13,56 МГц: 50, 100 и 300 Вт; 2,45 ГГц: 100 и 300 Вт
- Электрод - Одно- или многоуровневый электрод; РИТ-электрод
Производитель: Diener Electronic
Установки серии Pico предназначены для плазмохимической обработки образцов средних размеров в R&D-лабораториях и на опытных производствах. В бюджетных малогабаритных установках можно проводить все основные виды плазменной обработки при минимальных затратах. Различные варианты материалов камеры и типов генераторов позволяют получить конфигурацию идеально подходящую под конкретное применение.
По сравнению с Femto серия Pico имеет увеличенный объем камеры (до 15 л) и может быть изготовлена в напольном варианте корпуса с возможностью установки через стену чистого производственного помещения. Основным преимуществом установок серии Pico является большое количество вариантов конфигурации при относительно низкой стоимости и малых габаритах.
Области применения
- Керамика 60×48 мм: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
- Полупроводниковые пластины до 4″: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
- R&D и исследования.
Технические характеристики установок серии Pico
| Камера |
|
| Объем камеры | 4–15 л |
| Газовая система | Игольчатые клапаны с ротаметрами или цифровые РРГ |
| Генератор плазмы |
|
| Электрод |
|
| Управление |
|
| Датчик давления |
|
| Загрузка образцов |
|
| Вакуумный насос | Различные варианты под требования заказчика |
| Габариты (Ш×В×Г) |
|
