Описание
Установки серии Tetra предназначены для плазмохимической обработки образцов средних и крупных размеров, а также для групповой обработки изделий на серийных производствах. Большое количество вариантов конфигурации камеры позволяет оптимизировать технологический процесс под групповую обработку изделий любых размеров и форм. Основным применением установок Tetra является обработка большого количества деталей перед такими процессами, как сварка, пайка, покраска, лакирование. Установки Tetra широко используются на производствах печатных плат (PCB) для предварительной и межоперационной групповой очистки образцов.
Различные варианты материалов камеры и типов генераторов позволяют получить конфигурацию, идеально подходящую для конкретного применения. Основные преимущества установок серии Tetra — большое количество вариантов конфигурации камеры для групповой обработки образцов, возможность изготовления камеры и крепежной оснастки под заказ.
Области применения
- Печатные платы (групповая обработка): очистка отверстий и поверхности перед монтажом;
- Групповая обработка объемных образцов: электроника, приборостроение, медицина и др.;
- Керамика 60×48 мм (групповая обработка): очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
- Полупроводниковые пластины до 8″ (групповая обработка): очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР.
Технические характеристики установок серии Tetra
| Камера |
|
| Объем камеры | 34–57 л |
| Газовая система | Цифровые РРГ |
| Генератор плазмы |
|
| Электрод |
|
| Управление |
|
| Датчик давления |
|
| Загрузка образцов |
|
| Вакуумный насос | Различные варианты под требования заказчика |
| Габариты (Ш×В×Г) |
|
