Вакуумное напыление
Вид:
Сортировать по:
6 товаров
в каталоге
в каталоге
6 доступно под заказ,
доставка возможна по всей России
доставка возможна по всей России
Вакуумное напыление различных материалов широко применяется как в технологии изготовления микроэлектронных приборов, так и при создании защитных и декоративных покрытий; в цикле производства некоторых устройств бытовой и промышленной электроники; для проведения экспериментов с новыми материалами.
Существует несколько наиболее распространенных методов вакуумного напыления: термическое, электронно-лучевое, магнетронное, ионно-лучевое. В общем случае все эти методы объединяет использование в качестве рабочего объема вакуумной камеры, в которой располагается образец. Напыление материала может происходить, например, в высоком или сверхвысоком вакууме. Рабочие параметры установки напыления подбирают исходя из технологических требований к процессу, принимая во внимание специфику выбранного метода.
Мы предлагает как стандартные серийно выпускаемые установки термического, электронно-лучевого, магнетронного напыления, так и оборудование под заказ. В портфолио компании несколько компактных платформ для установок малой и средней производительности. Типичная производительность установок составляет от 1 до 10 полупроводниковых пластин диаметром 100 мм. Более продуктивные машины выпускаются под заказ.
Существует несколько наиболее распространенных методов вакуумного напыления: термическое, электронно-лучевое, магнетронное, ионно-лучевое. В общем случае все эти методы объединяет использование в качестве рабочего объема вакуумной камеры, в которой располагается образец. Напыление материала может происходить, например, в высоком или сверхвысоком вакууме. Рабочие параметры установки напыления подбирают исходя из технологических требований к процессу, принимая во внимание специфику выбранного метода.
Мы предлагает как стандартные серийно выпускаемые установки термического, электронно-лучевого, магнетронного напыления, так и оборудование под заказ. В портфолио компании несколько компактных платформ для установок малой и средней производительности. Типичная производительность установок составляет от 1 до 10 полупроводниковых пластин диаметром 100 мм. Более продуктивные машины выпускаются под заказ.
