Характеристики
Серия
RTP
Описание
Установки UniTemp серии RTP предназначены для быстрой высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и плоских подложек. Настольные компактные установки RTP прекрасно подходят как для R&D-применений, так и для пилотного и мелкосерийного производства.
Установка RTP 100-HV представляет собой модификацию печи RTP 100 с возможностью работы в высоком вакууме до 10-6 мбар. Печь работает с образцами до 100 мм в диаметре. Рабочая нагреваемая область: 100×100 мм. Загрузка подложек в рабочую камеру производится вручную. Максимальная температура процесса — до +1200 С. Максимальная скорость нагрева — до 150 К/с. Возможно проведение процессов в вакууме и газовой среде. Управление осуществляется при помощи встроенного микроконтроллера с сенсорным экраном.
Показать еще
Установка RTP 100-HV представляет собой модификацию печи RTP 100 с возможностью работы в высоком вакууме до 10-6 мбар. Печь работает с образцами до 100 мм в диаметре. Рабочая нагреваемая область: 100×100 мм. Загрузка подложек в рабочую камеру производится вручную. Максимальная температура процесса — до +1200 С. Максимальная скорость нагрева — до 150 К/с. Возможно проведение процессов в вакууме и газовой среде. Управление осуществляется при помощи встроенного микроконтроллера с сенсорным экраном.
Технические характеристики установки RTP 100-HV
| Максимальный размер подложки | Диаметр 100 мм (4″) , рабочая область 100×100 мм |
| Материал камеры | Кварцевое стекло (водоохлаждаемая камера) |
| Высота камеры | 10 мм |
| Система загрузки подложек |
|
| Уровень вакуума | До 10-6 мбар (турбомолекулярный насос) |
| Максимальная температура процесса | До +1200 °С |
| Тип нагревателя | ИК-лампы (общая мощность 18 кВт) |
| Зоны нагрева | Верхняя и нижняя (программируемые) |
| Скорость нагрева | До 150 K/с |
| Скорость охлаждения |
|
| Температурный контроллер | Встроенный |
| Используемые газы |
|
| Электропитание | 3×32 А, 380 В, 3 фазы |
| Размер установки (Ш×Д×В) | 505×504×580 мм (настольное размещение) |
| Вес печи | 65 кг |
Опции:
- Дополнительные газовые линии с РРГ (всего до 4 шт.)
- Держатели подложек из кварца, пирографита, графита, покрытого SiC
- Дополнительная термопара
- Различные вакуумные насосы
- Чиллер
- Дополнительная рабочая камера
