Печь быстрого термического отжига RTP 150-HV / RTP 150-HV -EP

Максимальный размер подложки - Диаметр 150 мм (6″) , рабочая область 156×156 мм
Материал камеры - Кварцевое стекло
Высота камеры - 40 мм
Уровень вакуума - До 10^-6 мбар
Максимальная температура процесса - До +1200 °С
Тип нагревателя - ИК-лампы (общая мощность 21 кВт/ 42 кВт в версии RTP 150-HV-EP)
Скорость нагрева - До 75 K/с / До 150 К/с в версии RTP 150-HV-EP

Производитель: Unitemp

Цена: по запросу

Под заказ

Добавить к запросу Добавить к запросу

Задать вопрос Задать вопрос

Распечатать

Скачать

Описание Технические характеристики Стандартная комплектация

Установки UniTemp серии RTP предназначены для быстрой высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и плоских подложек. Настольные компактные установки RTP прекрасно подходят как для R&D-применений, так и для пилотного и мелкосерийного производства.

Установки RTP 150-HV / RTP 150-HV -EP представляют собой модификацию печей RTP 150 с возможностью работы в высоком вакууме до 10-6 мбар. Печь позволяет работать с образцами до 150 мм в диаметре. Рабочая нагреваемая область: 156×156 мм. Загрузка подложек в рабочую камеру производится вручную. Максимальная температура процесса — до +1000 °С (до +1200 °С в версии RTP 150-HV-EP). Максимальная скорость нагрева — до 75 К/с (до 150 К/с в версии RTP 150-HV-EP). Возможно проведение процессов в вакууме и газовой среде. Управление осуществляется при помощи встроенного микроконтроллера с сенсорным экраном.

Технические характеристики установки

Максимальный размер подложки	Диаметр 150 мм (6″) , рабочая область 156×156 мм
Материал камеры	Кварцевое стекло (водоохлаждаемая камера)
Высота камеры	40 мм
Система загрузки подложек	Поддон из кварцевого стекла; Опциональный держатель из пирографита или графита, покрытого SiC
Уровень вакуума	До 10^-6 мбар (турбомолекулярный насос)
Максимальная температура процесса	До +1000 °С / До + 1200 °С в версии RTP 150-HV-EP
Тип нагревателя	ИК-лампы (общая мощность 21 кВт/ 42 кВт в версии RTP 150-HV-EP)
Зоны нагрева	Верхняя и нижняя (программируемые)
Скорость нагрева	До 75 K/с / До 150 К/с в версии RTP 150-HV-EP
Скорость охлаждения	От +1000 до +400 °С: 200 К/мин От +400 до +100 °С: 30 К/мин подложка охлаждается азотом
Температурный контроллер	Встроенный
Используемые газы	Азот, кислород, форминг-газ В базовой комплектации один РРГ 5 slm
Электропитание	3×32 А, 380 В, 3 фазы
Размер установки (Ш×Д×В)	505×504×580 мм (настольное размещение)
Вес печи	80 кг