Характеристики
Серия
RTP
Описание
Установки UniTemp серии RTP предназначены для быстрой высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и плоских подложек. Настольные компактные установки RTP прекрасно подходят как для R&D-применений, так и для пилотного и мелкосерийного производства.
Установки RTP 150 / RTP 150-EP позволяют работать с образцами до 150 мм в диаметре. Рабочая нагреваемая область: 156×156 мм. Загрузка подложек в рабочую камеру производится вручную. Максимальная температура процесса — до +1000 °С (до +1200 °С в версии RTP 150-EP). Максимальная скорость нагрева — до 75 К/с (до 150 К/с в версии RTP 150-EP). Возможно проведение процессов в вакууме и газовой среде. Управление осуществляется при помощи встроенного микроконтроллера с сенсорным экраном.
Показать еще
Установки RTP 150 / RTP 150-EP позволяют работать с образцами до 150 мм в диаметре. Рабочая нагреваемая область: 156×156 мм. Загрузка подложек в рабочую камеру производится вручную. Максимальная температура процесса — до +1000 °С (до +1200 °С в версии RTP 150-EP). Максимальная скорость нагрева — до 75 К/с (до 150 К/с в версии RTP 150-EP). Возможно проведение процессов в вакууме и газовой среде. Управление осуществляется при помощи встроенного микроконтроллера с сенсорным экраном.
Технические характеристики установки
| Максимальный размер подложки | Диаметр 150 мм (6″) , рабочая область 156×156 мм |
| Материал камеры | Кварцевое стекло (водоохлаждаемая камера) |
| Высота камеры | 40 мм |
| Система загрузки подложек | Поддон из кварцевого стекла; |
| Опциональный держатель из пирографита или графита, покрытого SiC | |
| Уровень вакуума | До 10-3 мбар |
| До уровня 10-6 мбар (модель RTP 150-HV) | |
| Максимальная температура процесса | До +1000 °С / До + 1200 °С в версии RTP 150-EP |
| Тип нагревателя | ИК-лампы (общая мощность 21 кВт / 42 кВт в версии RTP 150-EP) |
| Зоны нагрева | Верхняя и нижняя (программируемые) |
| Скорость нагрева | До 75 K/с / До 150 К/с в версии RTP 150-EP |
| Скорость охлаждения |
От +1000 до +400 °С: 200 К/мин От +400 до +100 °С: 30 К/мин подложка охлаждается азотом |
| Температурный контроллер | Встроенный |
| Используемые газы |
Азот, кислород, форминг-газ В базовой комплектации один РРГ 5 slm |
| Электропитание | 3×32 А, 380 В, 3 фазы |
| Размер установки (Ш×Д×В) | 505×504×420 мм (настольное размещение) |
| Вес печи | 75 кг |
Опции
- Дополнительные газовые линии с РРГ (всего до 4 шт.)
- Держатели подложек из кварца, пирографита, графита, покрытого SiC
- Дополнительная термопара
- Различные вакуумные насосы
- Чиллер
- Дополнительная рабочая камера
