Установки UniTemp серии VPO предназначены для быстрой высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и плоских подложек большого размера. Настольные компактные установки VPO прекрасно подходят как для R&D-применений, так и для пилотного и мелкосерийного производства.
Установка VPO-300-HV представляет собой модификацию печи VPO-300 с возможностью работы в высоком вакууме до 10-6 мбар. Печь позволяет работать с образцами до 300 мм в диаметре. Рабочая нагреваемая область: 300×300мм. Загрузка подложек в рабочую камеру производится вручную при помощи автоматического подъемного механизма крышки камеры. Максимальная температура процесса — до +1000°С. Возможно проведение процессов в вакууме и газовой среде. Управление осуществляется при помощи встроенного микроконтроллера с сенсорным экраном.
Максимальный размер подложки | Диаметр 300 мм (12″) , рабочая область 300×300 мм |
Материал камеры | Алюминий (опционально – нержавеющая сталь) |
Высота камеры | 50 мм, опционально до 120 мм |
Система загрузки подложек |
|
Уровень вакуума | Опционально до 10-6 мбар (турбомолекулярный насос) |
Максимальная температура процесса | До +1000 °С |
Тип нагревателя |
|
Зоны нагрева | Верхняя и нижняя (программируемые) |
Температурный контроллер | Встроенный |
Используемые газы | Азот, кислород, форминг-газ В базовой комплектации один ротаметр с цифровым дисплеем 5 slm |
Электропитание | 3×32 А, 380 В, 3 фазы |
Размер установки (Ш×Д×В) | 540×690×890 мм (настольное размещение) |
Вес печи | 100 кг |