Установка плазмохимического травления Vision 322 PE/RIE
- Возможность применения двух методов травления: изотропного плазменного и реактивно-ионного.
- Возможность изменения расстояния между газовым душем и электродом.
- Простой, интуитивно понятный интерфейс.
- Многоуровневый доступ пользователей.
- Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
- Простота использования и обслуживания.
- Малая занимаемая площадь <0,7 м2.
- Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
- Возможность изготовления опций и оснастки «под заказ».
Производитель: Plasma-Therm
Vision 322 PE/RIE компании Plazma-Therm — это компактная, надежная, технологически гибкая и простая в эксплуатации и обслуживании установка изотропного плазменного травления и реактивного ионного травления для R&D-лабораторий и мелкосерийных производств.
Установка Vision 322 PE/RIE позволяет травить следующие виды материалов:
Установка Vision 322 PE/RIE позволяет травить следующие виды материалов:
- Металлы: алюминий, медь, вольфрам, титан, благородные металлы.
- Диэлектрики: оксиды, нитриды;
- Полупроводниковые материалы: кремний, германий, материалы группы AIIIBV — GaAs, GaN, InP, InGaAs и другие;
- Полимеры: резисты, полиимиды.
- Возможность применения двух методов травления: изотропного плазменного и реактивно-ионного.
- Возможность изменения расстояния между газовым душем и электродом.
- Большая область загрузки — круглый стол диаметром 305 мм, который позволяет обрабатывать подложки разных форм и размеров.
- Равномерность травления по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±3%.
- В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
- Простой, интуитивно понятный интерфейс.
- История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
- Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
- Многоуровневый доступ пользователей.
- Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
- Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
- Современная архитектура на основе ПЛК и DeviceNet: безопасная работа, легкая диагностика и минимальное количество проводов.
- Простота использования и обслуживания.
- Малая занимаемая площадь <0,7 м2.
- Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
- Опциональное оснащение боксом для работы с токсичными и коррозионными газами.
- Возможность изготовления опций и оснастки «под заказ».
Технические характеристики
| Размер электрода | 12″ (305 мм) в диаметре |
| Температура электрода | Определяется типом процесса. Используется чиллер. Стандартно +5...45 °С, доступны другие варианты. |
| Материал электрода | Алюминий/алюминий с графитовым покрытием. Опционально доступны другие материалы |
| Тип плазмы | Емкостная |
| ВЧ-генератор | 600 Вт, 13,56 МГц |
| Вакуумная камера | Изготовлена из цельного блока алюминия. Опциональная внешняя система прогрева |
| Откачная система |
Форвакуумный насос 40–100 м3/ч, масляный или безмасляный Турбомолекулярный насос 250–350 л/с с керамическими подшипниками Возможна установка других насосов по ТЗ заказчика |
| Уровень вакуума | <10-6 торр |
| Контроль давления процесса | Автоматический |
| Газовые линии с цифровыми РРГ | 4 линии (стандартно). Опционально до 10 линий |
| Система контроля, ПО | ПЛК (XP/Windows 7), DeviceNet |
| Электропитание | 380 В, 50 Гц, 3 фазы |
| Габариты установки (Ш×Г×В) |
730×934×2147 мм с газовым шкафом на каркасе 730×934×1172 мм без газового шкафа на каркасе Возможно размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки |
| Сертификация | CE, SEMI-2, S8 |
Стандартная комплектация
- Система отслеживания окончания процесса:
- Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
- Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
- Лазерная интерферометрия (LEPD)
- Сухой форвакуумный насос,
- ТМН на магнитном подвесе,
- Дополнительные газовые линии (до 10 в сумме),
- Расширение температурного интервала электрода (например, –25...+60 С, либо диапазон на заказ),
- Перчаточный бокс,
- Специальные держатели образцов,
- Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта,
- Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM,
- Пакет для установки через стенку ЧПП,
- Размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки,
- Расширенная гарантия производителя,
- Специальные опции под заказ
