Установка плазмохимического травления Versaline RIE-ICP
- Максимальный размер обрабатываемой подложки 200 мм, поштучная обработка.
- Наличие вакуумного шлюза в базовой комплектации.
- Повышенная безопасность и чистота процесса за счет шлюзовой загрузки.
- Простой, интуитивно понятный интерфейс.
- Многоуровневый доступ пользователей.
- Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
- Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
Производитель: Plasma-Therm
Установка плазмохимического травления Plasma-Therm Versaline — это современная, надежная, высокопроизводительная платформа, на базе которой реализованы процессные модули всех ключевых типов плазменных процессов травления и осаждения материалов: RIE, RIE-ICP, PECVD, HDPCVD, DSE. Все процессные модули на платформе Versaline имеют стандартный механический интерфейс MESC и могут быть оснащены различными загрузчиками подложек, в зависимости от масштаба производства:
Установка Versaline RIE-ICP позволяет травить следующие типы материалов:
- автоматический шлюз — для R&D-лабораторий и мелкосерийных производств;
- автоматический кассетный загрузчик — для пилотных и серийных производств;
- роботизированный загрузчик, объединяющий модули в кластер, — для крупносерийных производств.
Установка Versaline RIE-ICP позволяет травить следующие типы материалов:
- GaN, GaAs, AlGaP, InP, InGaAs, HgCdTe;
- SiC, Al2O3, DLC;
- Si, SiO2, SiNx;
- Cr, Ti, Al, TiN, TiW, Mo;
- Фоторезисты, полиимиды.
Ключевые преимущества установки Versaline RIE-ICP:
- Максимальный размер обрабатываемой подложки 200 мм, поштучная обработка.
- Равномерность травления по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±2%.
- Наличие вакуумного шлюза в базовой комплектации.
- Повышенная безопасность и чистота процесса за счет шлюзовой загрузки.
- В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
- Простой, интуитивно понятный интерфейс.
- История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
- Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
- Многоуровневый доступ пользователей.
- Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
- Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
- Простота использования и обслуживания.
- Малая занимаемая площадь.
- Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
- Возможность замены шлюза автоматическим кассетным загрузчиком или роботом.
Основные технические характеристики установки Versaline RIE-ICP
| Размер электрода | Для пластин до 200 мм в диаметре |
| Загрузка | Поштучная шлюзовая загрузка, автоматический шлюз. Опционально автоматическая кассетная загрузка или робот |
| Температура электрода | Определяется типом процесса. Используется чиллер. Стандартно +10...60 °С. Различные варианты доступны по запросу и подбираются под технологический процесс. |
| Материал электрода | Алюминий/керамика. Полностью керамическая внутренняя стенка реактора |
| Тип прижима | Мягкий механический, охлаждение гелием. Опционально электростатический |
| Тип плазмы | Индуктивно-связанная |
| ВЧ-генератор |
RIE: 600 Вт, 13,56 МГц ICP: 2000 Вт, 2 МГц. Прогреваемый ICP-источник Опционально 3500 Вт, 2 МГц. |
| Вакуумная камера | Изготовлена из цельного блока алюминия. Опциональная внешняя система прогрева |
| Откачная система |
Форвакуумный насос 80 м3/ч, безмасляный Турбомолекулярный насос 1200 л/с на магнитном подвесе Возможна установка других насосов по ТЗ заказчика |
| Уровень вакуума | <10-6 торр |
| Контроль давления процесса | Автоматический |
| Газовые линии с цифровыми РРГ | 4 линии (стандартно). Опционально до 8 линий |
| Система контроля | На базе ControlWorks |
| Электропитание | 380 В, 50 Гц, 3 фазы |
| Габариты установки (Ш×Г×В) | 640×1887×2078 мм для конфигурации с автоматическим шлюзом |
| Сертификация | CE, SEMI-2, S8 |
| Удаленный мониторинг состояния системы | SECS/GEM |
Стандартная комплектация
- Система отслеживания окончания процесса:
- Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
- Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
- Лазерная интерферометрия (LEPD),
- Дополнительные газовые линии (до 8 в сумме),
- Расширение температурного интервала электрода (например, +10...+200 С, либо диапазон на заказ),
- Специальные держатели образцов,
- Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта,
- Пакет для установки через стенку ЧПП: два варианта,
- Расширенная гарантия производителя
