Описание
Vision 420 RIE компании Plasma-Therm — это компактная, надежная, экономически эффективная и простая в эксплуатации и обслуживании установка плазмохимического и реактивного ионного травления для R&D-лабораторий, мелкосерийных, пилотных и серийных производств.
Установка Vision 420 RIE позволяет травить следующие виды материалов:
Показать еще
Установка Vision 420 RIE позволяет травить следующие виды материалов:
- Диэлектрики: оксиды, нитриды.
- Полупроводниковые материалы: кремний, германий, материалы группы AIIIBV — GaAs, GaN, InP, InGaAs и другие.
- Полимеры: резисты, полиимиды.
Ключевые преимущества установки Vision 420 RIE:
- Большая область загрузки — круглый стол диаметром 406 мм, который позволяет обрабатывать подложки разных форм и размеров.
- Равномерность травления по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±3%.
- В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
- Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
- Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
- Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI).
- История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
- Многоуровневый доступ пользователей.
- Простой, интуитивно понятный интерфейс.
- Простота использования и обслуживания.
- Малая занимаемая площадь <1 м2.
- Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
Основные опции
- Система отслеживания окончания процесса:
- Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
- Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
- Дополнительные газовые линии (до 8 в сумме),
- Специальные держатели образцов,
- Пакет для установки через стенку ЧПП,
- Расширенная гарантия производителяые опции
Основные технические характеристики установки Vision 420 RIE
| Размер электрода | 16″ (406 мм) в диаметре |
| Температура электрода | Определяется типом процесса. Используется чиллер. Стандартно +20...25 °С, доступны другие варианты. |
| Материал электрода | Алюминий |
| Тип плазмы | Емкостная |
| ВЧ генератор | 600 Вт, 13,56 МГц. Опционально 1200 Вт, 13,56 МГц |
| Вакуумная камера | Изготовлена из цельного блока алюминия. |
| Откачная система |
Форвакуумный насос 80 м3/ч, сухой безмасляный Турбомолекулярный насос 300 л/с Возможна установка других насосов по ТЗ заказчика |
| Уровень вакуума | <10-6 торр |
| Контроль давления процесса | Автоматический |
| Газовые линии с цифровыми РРГ | 4 линии (стандартно). Опционально до 8 линий |
| Система контроля, ПО | Cortex на базе Windows 7 |
| Электропитание | 380 В, 50 Гц, 3 фазы |
| Габариты установки (Ш×Г×В) | 667×1146×1880 мм |
| Сертификация | CE, SEMI-2, S8 |
| Удаленный мониторинг состояния системы | SECS/GEM |
